产品描述
Candela 8520检测系统采用专有的光学技术，以两个入射角测量散射强度。它捕获了用于自动检测和分类的地形变化，表面反射率，相移和光致发光，以及广泛的感兴趣的缺陷（DOI）。8520为GaN晶片提供表面和光致发光缺陷检查，检测和分类GaN反应器缺陷控制的GaN位错，坑和孔。其功率应用包括基于SiC的透明晶片检测和晶体缺陷的分类，如BPDS（基本平面位错），微潜水锅，堆叠故障，杆堆叠故障，晶界，穿线位错，以及检测三角形，胡萝卜，垮台等地形缺陷划痕。
特性
- 检测宽带隙材料，包括SiC和GaN(衬底和外延)直径达200mm的缺陷
- 支持各种晶片厚度
- 检测粒子，划痕，裂缝，污渍，凹坑，凸块，酸值蚀刻映射，胡萝卜和表面三角形，基底平面位错，堆叠故障，晶界，穿线脱位和其他宏观外延障碍
用例
- 基板质量控制
- 基板供应商比较
- 入厂晶片质量控制(IQC)
- 传出晶圆质量控制（IQC）
- CMP（化学机械工艺）/抛光过程控制
- 晶圆清洁过程控制
- 外延过程控制
- 衬底与外延相关
- 外延反应堆供应商比较
- 流程监控工具
行业
- SIC和GaN电源设备
- 其它高端化合物半导体器件
选项
- 塞尔宝石
- 灯塔
- 钻石抄写员
- 校准标准
- 离线软件
- 光学字符识别（OCR）
- 光致发光
