模式模拟

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KLA的模式模拟系统使用先进的模型来探索光刻和模式技术的关键特性设计、可制造性和工艺限制产量。我们的模式模拟软件允许研究人员评估先进的模式技术,如EUV光刻和多种模式技术,而无需使用实验材料和原型工艺设备打印数百个测试晶圆的时间和费用。

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PROLITH™

真正的虚拟模式

PROLITH™光刻和图形模拟解决方案使用创新模型,精确模拟设计将如何在晶圆上打印。PROLITH被集成电路、LED和MEMS制造商、扫描仪公司、跟踪公司、掩模制造商、材料供应商和研究协会使用,以经济有效地评估模式技术,包括EUV光刻和多种模式技术。作为所有制版过程的一个至关重要的建模工具,PROLITH帮助光刻机了解制版印刷如何受到多个光刻变量的影响,同时显著减少了确定可行解决方案所需的时间。

用户只有网站 技术支持

应用程序
高级图形模拟,晶圆形貌建模
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PROLITH 2020 b:基于Windows的物理光刻模拟器,具有确定性和随机输出能力。prolith2020b提供了严格处理掩模形貌,晶片形貌,光刻胶建模和SEM计量,定量准确输出。

PROLITH企业2020 b:核心PROLITH 2020b的所有功能,加上一个可扩展的Linux引擎,适用于大型模拟任务,例如EUV光刻中的“黑天鹅”事件的随机模拟或需要运行数千个掩模剪辑的任务。一种可选的增强溶解模型可以准确描述NTD (Negative Tone Development)化学放大电阻的行为。

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